Rhodius beim "9th Global Congress on Process Safety"

Zum 2. Mal in Folge war Rhodius mit Präsentationen und als Aussteller auf diesem internationalen Kongress in den USA vertreten. Durch die Vorträge "Einfluss der Oberflächenspannung auf den Abscheidegrad von Tropfenabscheidern/Teil II" ( Hr. Wolfgang Heikamp ) und "Schaumzerstörung" (Herr Armin Pitzer, R&D ) wurden wichtige Informationen ausgetauscht und spezifische Fragen zur Separation geklärt. Die Teilnahme an diesem für die Prozess-und Chemieindustrie wichtigem Kongress war entscheidend für den Ausbau unserer Aktivitäten am Weltmarkt und zeigte von neuem, dass wir uns durch die Qualität unserer Produkte, unser Know-How und unseren Service einen internationalen Namen erworben haben.